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平成25年度 春期 午前Ⅱ 問13

ハードウェア

TSVに関する問題

TSV(Through-Silicon Via)を用いた半導体チップの3次元実装技術の説明として,適切なものはどれか。

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✓ これが正解ア積層した半導体チップ同士を貫通電極で接続する。

解説

TSVは、積層したチップ同士をシリコンを貫く電極でつなぎます。

TSV(Through-Silicon Via)は、その名前のとおりシリコン基板を貫通する電極です。3次元実装では、複数の半導体チップを積み重ね、各チップに設けた貫通電極で上下のチップを直接つなぎます。チップの外周からワイヤを引き回す方式と比べて配線が短くなり、多くの信号線をつなげるので、高速化や小型化に役立つとされています。設問は TSV を用いた技術を問うているので、貫通電極で接続するという説明が当てはまります。Through(貫く)と Via(経由する穴)の語の意味から、チップを縦に貫いてつなぐ技術と結び付けると見分けられます。

ほかの選択肢はなぜ違うのか

出典:平成25年度 春期 エンベデッドシステムスペシャリスト試験 午前Ⅱ 問13

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